 |
 |
 |
|
|
LEVEL=88
IC设计工具套件
Simucad的集成高电压IC设计工具套件提供了一个集成的设计流程,用于LCD 驱动器、 TFT 驱动器, 汽车, 工业, 电机控制, 笔记本电脑的功率管理 IC, PDA和其他的使用电池的电子元件。此套件受到Simucad独特的高电压SPICE建模性能和PDK的支持。 |
|
- 基于BSIM3级别88 SPICE模型具有最好的高压模型特征,包括自热、前进和后退模式、寄生不对称性和Rds的偏压依赖性
- 作为一项即可使用的服务,UTMOST III 模型参数提取软件提取高精确度SPICE模型,供一流的高电压芯片厂使用,
- 合作伙伴Foundry 支持SmartSpice模型和Simucad的 PDKs
- Simucad提供大型复杂的PDKs的快速开发
- 同样的环境贯穿Unix, Linux, 和Windows平台
- 强大的电路图捕捉和编辑功能,可创建和修改多视窗、多图表和分层次IC设计。
- 与SmartSpice 电路图仿真器的无缝集成,创造一个配合行为模型,交叉探测、波形显示和分析的交互式的设计环境。
- 以共享工作空间管理多用户项目,可共享设计团队所使用的单元库和符号库。
- 从其他电路图捕捉工具平滑过渡 – 开箱即用的安装,无需咨询顾问,并且支持 EDIF 输入
- 简单易用-对新用户有在线帮助
- 高生产力的模拟设计环境提供了Pcells, 自动符号生成,实时仿真查看(步进式波形)和多用户schematic locking

Standard BSIM3.

BSIM3 Level 88 with 9 additional parameters.
- 自热
- 外部电阻Rds的不对称和偏压(Vds) 依赖性
- Vds上的迁移率降级依赖性
- 亚域斜率和反向短沟道效应
- Vgs 和Vbs上的Vsat 依赖性
- 高电压的饱和度里跨导Gm的减少
- 偏压依赖的饱和电压
- 所有寄生的不对称性(二极管和电阻)
- 操作的前进和后退模式
- 不使用宏模型即可精确SPICE仿真LDMOS器件
- Philips MOS20提供基于高压的LDMOS简约模型, 它包括沟道区域和栅极下漂移的物理效应
- LDMOS 模型适用于仿真侧向 (LDMOS), 直向双扩散 (VDMOS) 以及扩展漏极 (EDMOS) 器件
- 与 HSPICE™ 100% 兼容,包括网表、模型、分析特性和结果观察
- 为关键模拟电路设计提供最精确的电路仿真结果
- 最快速的SPICE 电路仿真器,并且是唯一支持多进程的 SPICE 仿真器,可实现并行作业操作
- 使用多重求解程序和分步计算法则,有极好的收敛性
- 最大的经过验证的 SPICE 模型集合,包括传统技术的模型 (双极、CMOS) 和最新技术的模型 (TFT、SOI、HBT、FRAM 等)
- 配合Verilog-A选项,提供开放的模型开发环境和扩展的模拟信号行为级仿真能力
- 通过 OASIS™支持 Cadence 的模拟电路设计流程
- 使用新颖的瞬态非蒙特卡罗法仿真非线性动态电路中的瞬态噪声

Lateral PNP transistor.

Cross-Probing: Interactive hierarchical cross-probing of LVS discrepancy is clearly displayed.
- 与Gateway 电路图编辑器集成,使用LISA脚本语言配合Pcells,进行交叉探测和网表驱动的版图设计
- 简便易用,适用于各种技能水平人员-提供初学者在线帮助,和专家级强大的脚本书写功能
- 可定制的热键、宏指令和工具条、还有直接从Virtuoso™ 中导入工艺文件用于 GDS 层命名、颜色和点画法
- Guardian 物理验证
- 集成DRC/LVS/LPE,用于交互和批操作
- 以快速的自动转化Calibre™、Dracula™,和 Diva™来支持Mentor和Cadence 既有的DRC/LVS 规则文件
- 通过foundry证明的PDK广泛支持半导体工艺
- 使用网表交叉探测的快速、直观和分层次的LVS调试
- Gateway 电路图编辑器可导入EDIF 2 0 0 设计和符号
- Expert版图编辑器可读入Virtuoso™文件和读/写GDSII
- Guardian DRC/LVS 可解释Calibre™和Diva/Dracula runsets
- SmartSpice 可读入HSPICE™ 模型, 网表和命令
- 电路设计师自Gateway 电路图编辑器着手输入或解释设计, 驱使SmartSpice ,用于分析,转角, 以及从交互窗口进行电路优化
- 仿真和交叉探测之后,设计被转移到版图中
- 版图设计师使用电路图标示的Pcells, 进行DRC正确的版图和进行手工的版图调整。
- Guardian 物理验证提供了交互和批模式DRC/LVS/LPE 来完成设计循环
|
| |
|
|
 |
 |
 |
| 网站地图 |
|
| © 1984 - 2008 SILVACO International. |
注册商标 - 隐私声明 |
|