CLEVER

CLEVER是一个物理RC提取器。它使用GDSII掩模数据和工艺信息，结合其内置刻蚀/沉积仿真器和光刻仿真器，来创建MEMS、高级CMOS、TFT、内存单元等全真三维结构。CLEVER将所提取的RC反标注到SPICE网表。

• 最高精确度RC提取的业界最高标准
• 包含先进的光刻和逼真蚀刻沉积模型的真正三维场求解器
• 不受几何尺寸限制，可用于65纳米、45纳米或更小尺寸
• 为电路性能优化快速反馈其工艺及版图参数的变化
• 基于局部自适应网格细化（Adaptive Local Mesh Refinement）方法的求解器，自动产生最优化网格，以达到最高精度和速度
• 用户可选择边界条件、材料特性，并求解精度
• 求解器输出的电阻和电容可以自动反标注到已提取的有源器件（active device）网表中，以便即时进行SPICE分析
• 业界唯一能够重现的多种光刻效应的RC提取器，包括：光学邻近校正(OPC)的次波长效应、相移掩模（PSM）、对准误差（misalignment）、散焦 （defocus）以及ΔCD
• Silvaco强大的加密功能可以用来保护客户和第三方的知识产权