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ATLAS
器件仿真系统
ATLAS器件仿真系统使得器件技术工程师可以模拟半导体器件的电学、光学和热学行为。ATLAS提供了一个基于物理、使用简便的模块化的可扩展的平台，用以分析所有 二维和三维模式下半导体技术的直流、交流和时域响应。在并行机器上，高效和稳定的多线程算法在保持精度的同时，大大减少了仿真时间。
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| 主要特征 |
- 无需昂贵的分批作业试验，即可精确地仿真基于物理的器件的电学、光学和热学特性。
- 解决成品率和工艺变动的问题，以达到速度、功率、密度、击穿、漏电流、发光度和可靠性的最佳结合。
- 完全与ATHENA工艺仿真软件整合，具有完善的可视化软件包、大量的实例数据库和简单的器件。
- 提供最多的模型选择：硅、III-V、II-VI、IV-IV或聚合/有机技术，包括CMOS、BJT、高压功率器件、VCSEL、TFT、光电子、激光、LED、CCD、
传感器、熔丝、NVM、铁电材料、SOI、Fin-FET、HEMT和HBT。
- 通过将ATLAS结果直接导入UTMOST以供SPICE参数提取，从而将TCAD连接到Tapeout。
- 支持多核和多处理器SMP机器的并行处理。
- 全球各地有分支机构提供支持。
- Silvaco强大的加密功能可以用来保护客户和第三方的知识产权
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