ATHENA

ATHENA系统在SILVACO TCAD交互工具提供的一个用户友好性的环境中集成了几个工艺仿真模块。 ATHENA从世界著名的斯坦福大学仿真器SUPREM-IV中发展而来，与众多的学术和工业界伙伴合作开发了很多新颖的功能。ATHENA提供一个方便的平台，用于半导体工业的仿真处理:离子注入、扩散、氧化、物理蚀刻和淀积、光刻、应力成型和硅化。 主要特征 可迅速和精确地模拟应用在CMOS、双极、SiGe/SiGeC、SiC、SOI、III-V、 光电子、MEMS和有源器件技术的所有关键加工步骤 精确预测多层拓扑， 搀杂分布、以及多种器件结构的应力 高级仿真环境允许： 简便创建和修改工艺流程源程序，包括自动控制版图掩模序列 自动和用户定义网格生成和控制 交互绘制二维结构和分布以及一维横截面 运行时提取重要的工艺和器件参数 工艺流程优化以及模型参数校准 我们有一组博士级物理学家组成的TCAD 技术支持团队，致力于不断开发模型先进的半导体技术 ATHENA通过仿真取代了耗费成本的硅片实验，从而缩短了开发周期并且提高了成品率 Silvaco强大的加密功能可以用来保护客户和第三方的知识产权