VICTORY Cell 及其竞争对手

VICTORY Cell是个由版图驱动的快速三维工艺仿真器，专为大型结构而设计。它可完全替代新思科技（Synopsys）的Sentaurus Process、 T-SUPREMIV (SUPREM4) 和Coventor SEMulator3D (SEM)。 VICTORY Cell的高仿真速度源于对每一个工艺模型的精心优化，因此它能够快速仿真耗时长、多步骤的工艺流程。VICTORY Cell与交互式工具（包括TonyPlot、DeckBuild、DevEdit和MaskViews）以及虚拟晶圆加工环境（VWF）相整合。 主要特点： 提供快速、精准的半导体技术仿真，诸如：— 功率器件：BJT、JFET、IGBT等 缓冲超结器件：LDMOS、Diode等 光电器件和CMOS图像传感器 大型TFT显示元件、MEMS等 支持GDSII掩膜版图格式 精确的多线程三维蒙特卡罗注入 基于物理的单晶硅中的离子注入模型 浅结仿真所需的损伤积累和非晶化以及非晶化预注入 并行蒙特卡罗算法和近线性可扩展性 阴影、重新注入、井邻近效应（WPE: well proximity effect） 快速可扩展扩散模型带有热预算仿真功能、高/低浓度同时扩散效应和隔离，能仿真在一个数百万节点结构中的扩散。 针对大型器件结构的优化的网格算法，能进行快速图案转移、高宽比刻蚀和薄层保形沉积。 版图驱动的自动化网格生成功能，同时用户可以控制网格的分布 用户友好的SUPREM式语法简单易学 接口至VICTORY Stress和三维器件仿真器ATLAS 3D以及VICTORY Device 精确解决结构中多个器件的关键三维工艺步骤（如掺杂、薄层沉积），比起新思科技（Synopsys）的Santaurus™ ，能处理更大型的版图/单元。 解决由版图设计错误引起的整合问题，比起Coventor公司的SEMulator3D™，它能更精确地进行复杂器件单元工艺的原型制造