ATLAS

ATLAS 器件仿真系统使得器件技术工程师可以 模拟半导体器件的电气、光学和热力的行为。 ATLAS 提供一个基于物理，使用简便的模块化 的可扩展的平台，用以分析所有2D和3D模式下 半导体技术的直流，交流和时域响应。 主要特征 无需昂贵的分批作业试验，即可精确地特性表征基于物理的器件的电气、光学和热力性能 解决成品率和工艺制作过程变异的问题，使其达到速度、功率、密度、击穿、泄漏电流、发光度和可靠性的最佳结合 完全与ATHENA工艺仿真软件整合，具有完善的可视化软件包，大量的实例数据库和简单的器件输入 最多选择的硅模型，III-V、II-VI、IV-IV或聚合/有机科技，包括CMOS、双极、高压功率器件、VCSEL、TFT、光电子、激光、LED、CCD、传感器、熔丝、NVM、铁电材料、SOI、Fin-FET、HEMT和HBT 分支机构遍布世界各地，有专门的物理学博士提供TCAD支持 与专精稳定和有远见的行业领导者合作，在新技术强化上有活跃的发展计划 直接把ATLAS结果输入到UTMOST进行SPICE参数提取，将TCAD技术应用到整个流片(Tapeout)过程。

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2007年12月1日　現在