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TCAD資料
| 2D process simulation |
| Advances in ion implantation modeling for doping of semiconductors | 2005年6月21日 |  |
| Backend Process Simulation including Plasma Etch | 2005年3月3日 | |
| CMOS Latchup Simulation | 2005年3月3日 | |
| Elite 2D Topography Advanced 2D deposition and etch simulator | 2005年4月13日 | |
| Fast Monte-Carlo Simulation of Ion Implantation
Binary collision approximation implementation within ATHENA | 2005年3月3日 | |
| LOCOS modeling
Modeling of Local Oxidation Processes | 2005年3月10日 | |
| MC Depo/Etch
2D Monte Carlo deposition and etch simulator | 2005年4月13日 | |
| MC Implant 1D/2D Monte Carlo Implantation Simulator
Seamlessly integrated into ATHENA's SSuprem4 | 2005年4月13日 | |
| Modeling of implantation using analytical models | 2005年3月3日 | |
| Optimization of photolithography process using simulation | 2005年3月3日 | |
| Optolith 2D Lithography Simulator
Advanced 2D optical lithography simulator | 2005年4月13日 | |
| PLS Advanced Diffusion Model
New advanced diffusion model for dopants in Silicon | 2005年3月3日 | |
| Process Model Simulates Lithography, Plasma Etch
A software package developed by SILVACO International, Inc. provides sophisticated treatments for a surprising range of semiconductor processes, including lithography with optical proximity correction, film deposition with keyhole voids, and plasma etching. | 2005年1月20日 | 
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| Process simulation calibration | 2005年3月3日 | |
| RTA simulation using <311> cluster models | 2005年3月3日 | |
| SSuprem4 Process Simulation Software
Advanced 2D Process Simulator | 2005年4月13日 | |
培训资料
Contributed by STMi Catania | 2010年7月19日 | |
