SSupreme 4 - 2D Core Process Simulator
2D process simulator widely used in the semiconductor industry for designing, analysis and optimazation of various fabrication technologies

通用一维、二维工艺仿真器

Athena是一个通用的一维、二维工艺仿真器,包括:

刻蚀和淀积

  • 用于快速成型结构的几何模型
  • 用于进行详细的工艺步进分析的物理模型

植入

  • 快速分析模型
  • 及其精确的蒙特卡罗模型

退火

  • 完整的一套掺杂扩散模型
  • 分层氧化模型

应力模拟

  • 用于应力工程的应力历史

引言

在半导体工厂运行实际实验既费时又费钱。在运行实际实验费时费钱且具有危险性而以其他方式难以进行的情况下,预测仿真极其有用。用模拟实验替代一些实际的实验往往更具成本效益和时间效率。工艺仿真的速度和精度通过快速实现多次运行和工艺设计优化节省了技术人员大量的时间和金钱。

Athena是Silvaco的一维和二维工艺仿真器,它是经过20多年将二维斯坦福传统工具的延伸,可服务于代工厂和无晶圆厂设计公司。

特征

  • 一套完整的扩散模型:菲克、费米、two.dim、full.cpl
  • 物理氧化仿真应力分析
  • 及其精确快速的多线程蒙特卡罗注入仿真
  • 无缝链接至二维器件仿真,包括结构镜像和电极规格
  • 简单易学、功能强大的调试模式、用户友好的SUPREM语法
  • 也可在一维作为快速校准平台
  • 自动从一维切换到二维模式
  • 应力仿真,包括内在的、掺杂、晶格和热失配
  • 基于物理的光刻仿真器用于现实的光刻掩模形状

功能

  • 允许优化现有的工艺和提供预测缩放行为
  • 解决新技术的挑战
  • 用仿真替换实验减少了掩模和原型代工成本
  • 在硅制成之前创建基于虚拟工艺的PDK缩短了上市时间

应用

Front end of line (FEOL) 至 back end of line (BEOL) 应用, 包括:

  • 高级 CMOS
  • SOI
  • TFT
  • LED
  • OLED
  • 电源(Silicon, SiC, GaN)
  • 光电 (CIS, Solar cell, Laser)
 

Athena 2D 模块

SSuprem 4

二维核心工艺仿真器

SSuprem4是一个高级的二维工艺仿真器,广泛地应用于半导体业的多种设计、分析和优化。SSuprem4运用广泛的物理模型,精确模拟现代技术中的扩散、离子注入、氧化、蚀刻、淀积、硅化、外延生长以及应力成型等主要工艺步骤。

Elite


高级物理蚀刻和淀积仿真器

Elite是一个高级的二维拓扑仿真器,用于模拟现代半导体技术技术的物理蚀刻、淀积、回流和化学机械抛光(CMP)工艺。在ATHENA框架系统中,Elite提供了无缝的SSuprem4和Optolith工艺仿真器的双向集成,包含了一个额外的MC蚀刻/淀积模块,提供基于蒙特卡罗的原子蚀刻/淀积模型。

Optolith


高级二维光刻仿真器

Optolith是一个非平面二维光刻仿真器,用于建模深亚微米光刻的各个方面。如成像、曝光、光刻胶烘焙、光刻胶显影以及回流等。Optolith提供快速精确的方法用于实验验证掩模可曝光性以及工艺控制。Optolith仿真配合大型掩模电阻间隙的投影成像和接近式曝光。

MC Implant


高级蒙特卡罗注入仿真器

MC Implant是一个标准的离子注入仿真器, 它建模非晶体和晶体材料的离子阻止,缺陷生成, 以及离子注入的分布等。大量的测量分布图比较显示MC Implant的高精确度和预见性。仿真器可用于大多数离子/ 材料组合,任意形状、不同衬底方向、注入剂量、能量和角度。

MC Etch & Depo


二维蒙特卡罗淀积/蚀刻仿真器

MC Deposit/Etch 是个高级的拓扑仿真模块,通过ATHENA系统与Elite无缝接口。它包括了几种基于蒙特卡罗的模型,用来模拟多样的使用了原子微粒流的刻蚀和淀积工艺。